发明名称 |
一种制备大尺寸高质量石墨烯单晶的装置及方法 |
摘要 |
本发明涉及一种制备大尺寸高质量石墨烯单晶的装置及方法。该装置包括:壳体和顶盖,顶盖内设带布气管的气体喷头,使进入的高纯气体均匀分布进入反应腔体;反应腔体由密封石英管、插接在两段密封石英管中间的石墨发热体、放置在石墨发热体内部的石墨坩埚组成,石墨坩埚用于放置SiC晶片衬底;石墨发热体外有冷却水系统、中频线圈;壳体底部有出气口。本发明还提供利用该装置在SiC衬底上制备大尺寸高质量石墨烯单晶的方法。采用本装置及生长方法,在SiC衬底上制得高质量的石墨烯晶体,其迁移率比SiC高温热解方法制备的石墨烯提高近1~2个数量级。 |
申请公布号 |
CN104695012A |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201510128458.X |
申请日期 |
2015.03.24 |
申请人 |
山东大学 |
发明人 |
赵显;于法鹏;许士才;程秀凤;孙丽;杨志远;陈秀芳 |
分类号 |
C30B25/02(2006.01)I;C30B29/02(2006.01)I |
主分类号 |
C30B25/02(2006.01)I |
代理机构 |
济南金迪知识产权代理有限公司 37219 |
代理人 |
杨磊 |
主权项 |
一种SiC衬底上制备石墨烯单晶的装置,该装置包括:‑壳体和顶盖,顶盖位于壳体上面,顶盖中部有进气口,与顶盖内设置的带布气管的气体喷头连通,使进入的高纯气体均匀分布进入反应腔体;‑反应腔体位于壳体中部,由密封石英管、插接在两段密封石英管中间的石墨发热体、放置在石墨发热体内部的石墨坩埚组成,石墨坩埚用于放置SiC晶片衬底;反应腔体通过固定在壳体内底部的支撑架支撑;‑冷却水系统,位于石墨发热体外,自下而上通冷却循环水;‑中频线圈,位于石墨发热体外,用于感应加热石墨发热体;‑在密封石英管下端设有气体导出通道,连通壳体底部的出气口。 |
地址 |
250199 山东省济南市历城区山大南路27号 |