| 发明名称 | 等离子体处理装置及用于处理至少一块基片的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于处理至少一块基片的一种方法和一种等离子体处理装置，其具有：等离子体处理腔(12)，在该腔中可产生供处理该基片(1)用的等离子体；至少一个通入该等离子体处理腔(12)中的进气口(16)，以用于导入至少一种过程气体(15)；真空泵装置(18)，其经出气口(20)与该等离子体处理腔(12)呈流动连接，该真空泵装置在2-50Pa的压力范围内按分子氮(N<sub>2</sub>)计且标准化到该等离子体处理腔(12)的内表面的有效抽吸能力为至少1500m<sup>3</sup>/h每平方米等离子体处理腔(12)内表面。 | ||
| 申请公布号 | CN104704142A | 申请公布日期 | 2015.06.10 |
| 申请号 | CN201380051002.7 | 申请日期 | 2013.09.03 |
| 申请人 | 曼兹股份公司 | 发明人 | R·贝克曼;S·诺尔克;B·胡斯;S·卡斯特尔;B·梅尔 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人 | 钟守期;杨勇 |
| 主权项 | 一种用于处理至少一块基片(1)的等离子体处理装置，其具有：‑一个等离子体处理腔(12)，在该腔中可产生供处理该基片(1)用的等离子体(14)，‑至少一个通入该等离子体处理腔(12)中的进气口(16)，以用于导入至少一种过程气体(15)，‑一个真空泵装置(18)，其经出气口(20)与该等离子体处理腔(12)呈流动连接，该真空泵装置在2‑50Pa的压力范围内按分子氮(N<sub>2</sub>)计且标准化到该等离子体处理腔(12)的内表面的有效抽吸能力为至少1500m<sup>3</sup>/h每平方米等离子体处理腔(12)内表面。 | ||
| 地址 | 德国罗伊特林根 | ||