一种用于氮化硅陶瓷抛光的抛光粉制备方法

摘要

本发明公开了一种氮化硅陶瓷抛光粉的制备方法，特征在于该方法具有以下工艺步骤：在反应器中，按质量百分浓度加入8%~11%的氯化铈，28%~38%的三氧化铬，2%~5%十二烷基苯磺酸钠溶解于水中，再加入10%~20%的三氧化二铝， 32%~45%的氮化硼，搅拌呈浆液，再将3%~8%草酸溶解于水后加入，各组分之和为百分之百，水不计入组分，常压下，搅拌，加入热85℃，反应18~24h，使氯化铈生成颗粒均匀的草酸铈，固液分离，在1100℃~1150℃焙烧5~8h，冷却后，经气流粉碎，即得氮化硅陶瓷抛光粉。该抛光粉具有研磨硬度高、粉体抛光效果好，光泽度，无划痕，平整度高，粉的用量少。

主权项

一种氮化硅陶瓷抛光粉的制备方法，特征在于该方法具有以下工艺步骤：在反应器中，按质量百分比加入8%~11%的氯化铈，28%~38%的三氧化铬，2%~5%十二烷基苯磺酸钠溶解于水中，再加入10%~20%的三氧化二铝， 32%~45%的氮化硼，搅拌呈浆液，再将3%~8%草酸溶解于水后加入，各组分之和为百分之百，水不计入组分，常压下，搅拌，加入热85℃，反应18~24h，使氯化铈生成颗粒均匀的草酸铈，固液分离，在1100℃~1150℃焙烧5~8h，冷却后，经气流粉碎，即得氮化硅陶瓷抛光粉，所得到的氮化硅陶瓷抛光粉的粒径为0.2~2.0μm的范围内。