光调制设备

摘要

本发明公开了一种光调制设备。上述光调制设备包括：彼此相对设置的第一基板和第二基板；第一电极，设置于第一基板上；第一疏水性介电层，覆盖第一电极；第二疏水性介电层，设置于第二基板上；第一凸出物和第二凸出物，分别设置于第一基板上；第二电极，设置于第一基板上，其中第一电极和第二电极分别靠近第二凸出物和第一凸出物；第一液体与第二液体，设置于第一基板和第二基板之间，其中第一电极和第二电极未施加电压时，第一液体位于第二电极的正上方，且第一液体和第二液体之间的界面位于第一电极上方。

主权项

一种光调制设备，包括：第一基板和一第二基板，其彼此相对设置；第一电极，设置于该第一基板上；第一疏水性介电层，覆盖该第一电极；第二疏水性介电层，设置于该第二基板上；第一凸出物和一第二凸出物，分别设置于该第一基板上；以及第一液体与第二液体，设置于该第一基板和该第二基板之间，其特征在于：所述光调制设备还包括设置于该第一基板上的第二电极，该第一电极和该第二电极分别靠近该第二凸出物和该第一凸出物；以及当该第一电极和该第二电极未施加电压时，该第一液体位于该第二电极的正上方，且该第一液体和该第二液体之间的一界面位于该第一电极的上方。