发明名称 |
一种可变闪耀角的闪耀光栅和双闪耀光栅制备方法及产品 |
摘要 |
本发明公开一种可变闪耀角的闪耀光栅和双闪耀光栅的制备方法及产品,属于图像压印技术领域。具体为:将硬模板上的目标光栅图形转移到软模板,在基片上制备压印胶层;将软模板上的目标光栅图形压印到压印胶层,通过压强大小控制软模板的倾斜度从而控制母闪耀光栅的闪耀角,进而刻蚀得到母闪耀光栅;在母闪耀光栅上沉积硬掩膜层;在硬掩膜层上制备压印胶层;将软模板上的目标光栅图形压印到压印胶层上,通过压强大小来控制软模板的倾斜度从而控制子闪耀光栅的闪耀角,进而刻蚀得到子闪耀光栅,制备得到双闪耀光栅。本发明通过控制转移软模板上图案到基片的过程中的压强,得到具有不同闪耀角的闪耀光栅,保证光栅质量的同时降低了成本。 |
申请公布号 |
CN103257383B |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201310131516.5 |
申请日期 |
2013.04.16 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
陈鑫;赵建宜;王磊;周宁;刘文 |
分类号 |
G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人 |
李智 |
主权项 |
一种闪耀光栅制备方法,包括以下步骤:(1)将硬模板上的目标光栅图形转移到软模板上,同时在基片上制备压印胶层;(2)将软模板上的目标光栅图形压印到压印胶层上,压印过程中通过压强大小来控制软模板的倾斜度从而控制闪耀角;(3)对形成目标光栅图形的压印胶层进行刻蚀得到闪耀光栅。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |