发明名称 |
分光特性测量装置 |
摘要 |
本发明的分光特性测量装置具备:分割光学系统,其将从位于被测量物的测量区域内的多个测量点分别发出的测量光束分割为第一测量光束和第二测量光束;成像光学系统,其使第一测量光束与第二测量光束发生干涉;光程差赋予单元,其对第一测量光束和第二测量光束之间赋予连续的光程差分布;检测部,其检测干涉光的光强度分布;处理部,其基于由检测部检测出的干涉光的光强度分布来求出被测量物的测量点的干涉图,通过对该干涉图进行傅立叶变换来获取光谱;共轭面成像光学系统,其配置在被测量物与分割光学系统之间,具有与该分割光学系统共用的共轭面;以及周期性赋予单元,其配置于共轭面,对从多个测量点发出的测量光束之间附加周期性。 |
申请公布号 |
CN104704333A |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201380052250.3 |
申请日期 |
2013.10.02 |
申请人 |
国立大学法人香川大学 |
发明人 |
石丸伊知郎 |
分类号 |
G01J3/45(2006.01)I;G01J3/453(2006.01)I;G01N21/27(2006.01)I |
主分类号 |
G01J3/45(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
一种分光特性测量装置,其特征在于,具备:a)分割光学系统,其将从位于被测量物的测量区域内的多个测量点分别发出的测量光束分割为第一测量光束和第二测量光束;b)成像光学系统,其使上述第一测量光束与上述第二测量光束发生干涉;c)光程差赋予单元,其对上述第一测量光束和上述第二测量光束之间赋予连续的光程差分布;d)检测部,其检测上述干涉光的光强度分布;e)处理部,其基于由上述检测部检测出的上述干涉光的光强度分布来求出上述被测量物的测量点的干涉图,通过对该干涉图进行傅立叶变换来获取光谱;f)共轭面成像光学系统,其配置在上述被测量物与上述分割光学系统之间,具有与该分割光学系统共用的共轭面;以及g)周期性赋予单元,其配置于上述共轭面,对从上述多个测量点发出的测量光束之间赋予周期性。 |
地址 |
日本香川县 |