发明名称 |
剥离层合物及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种剥离层合物,所述剥离层合物包括:基材;所述基材上的(A)有机硅剥离层,所述有机硅剥离层通过将包含如下的形成剥离固化膜的有机聚硅氧烷组合物固化而形成:(a)在所述分子中具有至少两个硅键合的烯基基团并且具有就质量单位而言小于或等于1,000ppm的四(4)聚物至二十(20)聚物环状硅氧烷含量的有机聚硅氧烷;(b)有机氢聚硅氧烷;以及(c)硅氢加成反应催化剂;以及所述有机硅剥离层上的(B)粘合剂层,所述粘合剂层包含水性粘合剂组合物,并且本发明公开了一种用于制备所述剥离层合物的方法。 |
申请公布号 |
CN104704071A |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201380051203.7 |
申请日期 |
2013.10.09 |
申请人 |
道康宁东丽株式会社 |
发明人 |
远藤修司;山田高照 |
分类号 |
C09D183/04(2006.01)I;C09J7/04(2006.01)I;C08G77/50(2006.01)I;C09J133/08(2006.01)I;C09D183/07(2006.01)I |
主分类号 |
C09D183/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
胡秋玲;郑霞 |
主权项 |
一种剥离层合物,所述剥离层合物包括:基材;所述基材上的(A)有机硅剥离层,所述有机硅剥离层通过将包含如下的形成剥离固化膜的有机聚硅氧烷组合物固化而形成:(a)在分子中具有至少两个硅键合的烯基基团并且具有就质量单位而言小于或等于1,000ppm的四(4)聚物至二十(20)聚物环状硅氧烷含量的有机聚硅氧烷;(b)在分子中具有至少两个硅键合的氢原子的有机氢聚硅氧烷;以及(c)硅氢加成反应催化剂;以及所述有机硅剥离层上的(B)粘合剂层,所述粘合剂层包含水性粘合剂组合物。 |
地址 |
日本东京都 |