发明名称 |
离线可钢低辐射镀膜玻璃及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种离线可钢低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片,玻璃基片上设有依次设有氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>;离线可钢低辐射镀膜玻璃的制备方法为:在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中,使其基础真空达到10<sub>-3</sub>Pa,线速度为3.5米/分钟时,在玻璃上依次溅射氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>。本发明具有在实现膜层的低辐射率和低传热性能的基础上,能够同时实现可进行异地热处理等深加工的优点。 |
申请公布号 |
CN102615877B |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201210087145.0 |
申请日期 |
2012.03.29 |
申请人 |
江苏奥蓝工程玻璃有限公司 |
发明人 |
顾海波;陈颖玺 |
分类号 |
B32B9/04(2006.01)I;B32B15/00(2006.01)I;B32B17/00(2006.01)I;C03C17/36(2006.01)I |
主分类号 |
B32B9/04(2006.01)I |
代理机构 |
南京正联知识产权代理有限公司 32243 |
代理人 |
顾伯兴 |
主权项 |
一种离线可钢低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片,其特征在于:所述玻璃基片上依次设有氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>,所述玻璃基片的厚度为6mm,所述氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>的厚度为37nm,所述金属镍铬NiCr的厚度为1.9nm,所述金属银Ag的厚度为8nm,所述金属镍铬NiCr的厚度为2.1nm,所述氮化硅Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>的厚度为57nm。 |
地址 |
226001 江苏省南通市港闸区秦灶街道八里庙村八组 |