发明名称 定位设备、控制设备和控制方法
摘要 本发明涉及具有非常稳定的温度、非常低的功耗和均匀的温度分布的例如用作晶片台的定位设备。长行程台(20)和短行程台(50)堆叠在彼此之上。为了发起长行程台(20)和短行程台(50)在期望移动方向(M1)上的移动,首先以预定时间间隔以及比长行程台(20)的静止状态中的铁磁中心行程元件(52)与两个致动器(30、40)中的最靠近的一个致动器之间的距离(d)更短的距离、在与期望移动方向(M1)相反的相反方向(M2)上移动长行程台(20)和/或首先在期望移动方向(M1)上移动短行程台(50)。随后,在期望移动方向(M1)上移动长行程台(20)。
申请公布号 CN104704625A 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201380052699.X 申请日期 2013.09.27
申请人 皇家飞利浦有限公司 发明人 A.J.W.范里伊文努根;F.B.斯佩林
分类号 H01L21/68(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 H01L21/68(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 李静岚;景军平
主权项  一种定位设备(2),包括:‑ 包括一个或多个支撑元件(11、12、13)的支撑装置(10),‑ 由支撑元件(11)支撑并且相对于支撑元件(11)在移动方向(M)上可移动的长行程台(20),所述长行程台包括由长行程支撑元件(11)支撑的长行程台载体元件(21),‑ 相对于所述长行程台(20)在所述移动方向(M)上可移动的短行程台(50),所述短行程台(50)包括由短行程支撑元件(12、13)支撑的短行程载体台元件(51),其中所述长行程台(20)或所述短行程台(50)承载以固定距离彼此相对布置的两个致动器(30、40),在两个致动器之间具有间隙,每个致动器(30、40)包括铁磁轭(31、41)和布置在所述轭(31、41)的磁通路径中的磁体(32、33、42、43),并且其中所述长行程台(20)或所述短行程台(50)中的另一个包括布置在所述致动器(30、40)之间的铁磁中心元件(52),‑ 控制单元(60),其用于发起所述长行程台(20)和所述短行程台(50)在期望移动方向(M1)上的移动,这是通过首先以预定时间间隔以及比所述长行程台(20)的静止状态中的所述铁磁中心元件(52)与最靠近的致动器(30、40)之间的距离(d)更短的距离、在与所述期望移动方向(M1)相反的相反方向(M2)上移动所述长行程台(20)和/或在所述期望移动方向(M1)上移动所述短行程台(50),并且然后在所述期望移动方向(M1)上移动所述长行程台(20)来完成的。
地址 荷兰艾恩德霍芬