发明名称 Nonvolatile memory device having vertical structure
摘要 수직 구조의 비휘발성 메모리 소자 및 그 동작방법이 제공된다. 비휘발성 메모리 소자는 수직 구조의 낸드 스트링을 포함한다. 낸드 스트링은 복수의 메모리셀들 및 상기 복수의 메모리셀들의 일측에 서로 인접하게 배치된 적어도 한 쌍의 제 1 선택 트랜지스터들을 포함한다. 복수의 워드 라인들은 상기 낸드 스트링의 상기 복수의 메모리셀들에 결합된다. 제 1 선택 라인은 상기 낸드 스트링의 상기 적어도 한 쌍의 제 1 선택 트랜지스터들에 공통으로 결합된다.
申请公布号 KR101527195(B1) 申请公布日期 2015.06.10
申请号 KR20100006475 申请日期 2010.01.25
申请人 삼성전자주식회사 发明人 김두곤;정재훈;김한수;조원석;장재훈;심선일
分类号 G11C16/00;H01L27/115 主分类号 G11C16/00
代理机构 代理人
主权项
地址