发明名称 像素界定层及制备方法、OLED基板、显示装置
摘要 本发明提供一种像素界定层的制备方法及通过像素界定层制备OLED基板、显示装置,属于有机电致发光二极管显示技术领域,其可解决现有的具有亲疏两性的像素界定层制备步骤繁琐的问题。本发明的像素界定层的制备方法,包括:步骤1、将混合溶液形成在基底上,形成混合液薄膜;所述混合溶液包括亲性材料、疏性材料以及溶剂;步骤2、对上述混合溶液薄膜进行热处理工艺,形成上部的亲性材料的含量小于下部亲性材料含量,上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料层;步骤3、通过构图工艺在像素界定材料层上形成包括像素界定层的图形。本发明步骤简单,容易实现。
申请公布号 CN103227190B 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201310159633.2 申请日期 2013.04.28
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 侯文军;刘则
分类号 H01L27/32(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L27/32(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 柴亮;张天舒
主权项 一种像素界定层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、将混合溶液形成在基底上,形成混合溶液薄膜;所述混合溶液包括溶剂以及溶解在溶剂中的亲性材料、疏性材料;其中,所述亲性材料是指有机电致发光材料的溶液有吸引性;所述疏性材料是指对有机电致发光材料的溶液有排斥性;步骤2、对上述混合溶液薄膜进行热处理工艺,形成上部的亲性材料的含量小于下部亲性材料含量,上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料层;步骤3、通过构图工艺形成包括像素界定层的图形。
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