发明名称 一种氮化镓基场效应晶体管及其制备方法
摘要 本发明公开了一种氮化镓基场效应晶体管,包括有由下至上依次层叠的衬底、缓冲层、氮化镓(GaN)层、氮化铝镓(AlGaN)层,及设置于氮化铝镓层上的源极、漏极和位于两者之间的栅极,所述栅极是由导电类钻碳(Diamond-like carbon;DLC)制成,所述导电DLC中,sp2键的含量大于50%。本发明用类钻碳作为栅极材料降低了栅极区域的自发性热效应,提高稳定性,同时利用掺杂类钻碳的方式调整栅极阻值与极性,实现增强型工作的目的。本发明还公开了上述晶体管的制备方法。
申请公布号 CN104701364A 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201510057890.4 申请日期 2015.02.04
申请人 厦门市三安集成电路有限公司 发明人 叶念慈;徐宸科;林科闯
分类号 H01L29/778(2006.01)I;H01L29/43(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/337(2006.01)I 主分类号 H01L29/778(2006.01)I
代理机构 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人 连耀忠
主权项 一种氮化镓基场效应晶体管,包括有由下至上依次层叠的衬底、缓冲层、氮化镓(GaN)层、氮化铝镓(AlGaN)层,及设置于氮化铝镓层上的源极、漏极和位于两者之间的栅极,其特征在于:所述栅极是由导电类钻碳(Diamond‑like carbon;DLC)制成,所述导电DLC中,sp2键的含量大于50%。
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