| 发明名称 | 在处理腔室中提供及导引热能的设备 | ||
| 摘要 | 本文提供用于提供热能至处理腔室的设备。该设备可包括：该处理腔室的处理腔室主体；固态源阵列，该固态源阵列具有数个固态源，该固态源阵列设置于第一基板上，以提供热能至该处理腔室来加热靶材元件，该靶材元件设置于该处理腔室主体中；以及至少一反射体，该至少一反射体设置于该第一基板上并且邻近于该等数个固态源的一或多个固态源，以将该等数个固态源的该一或多个固态源所提供的热能导引朝向该靶材元件。 | ||
| 申请公布号 | CN104704614A | 申请公布日期 | 2015.06.10 |
| 申请号 | CN201380052718.9 | 申请日期 | 2013.10.10 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | J·约翰逊;J·M·瑞尼西;J·格林;M·亚伯拉罕;A·M·亨特;A·奈纳尼 |
| 分类号 | H01L21/324(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/324(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 黄嵩泉 |
| 主权项 | 一种用于提供热能至处理腔室的设备，该设备包括：该处理腔室的处理腔室主体；固态源阵列，该固态源阵列具有数个固态源，该固态源阵列设置于第一基板上，以加热靶材元件，该靶材元件设置于该处理腔室主体中；及至少一反射体，该至少一反射体设置于该第一基板上并且邻近于该等数个固态源的一或多个固态源，以将该等数个固态源的该一或多个固态源所提供的热能导引朝向该靶材元件。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||