发明名称 成膜方法以及成膜装置
摘要 提供一种成膜方法以及成膜装置,能够抑制成膜中的被膜的氧化,能够使装置简化且低价,并且不耗费精力和时间就能够更换成膜对象的基材。成膜装置(100)使原料的粉末(2)与气体一并加速,将该粉末(2)保持为固相状态向基材(1)的表面喷涂,使该粉末(2)堆积,由此进行成膜,其中,所述成膜装置具备:腔室(10);保持部(11),其设置在该腔室(10),保持基材(1);喷嘴(12),其将粉末(2)与非活性气体一并喷射;以及驱动部(15),其使喷嘴(12)与保持部(11)中的一者相对于另一者移动,利用喷嘴(12)所喷射的非活性气体使腔室(10)内成为正压。
申请公布号 CN104704144A 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201380052363.3 申请日期 2013.10.08
申请人 日本发条株式会社 发明人 平野智资
分类号 C23C24/04(2006.01)I;B05B7/14(2006.01)I;B05D1/12(2006.01)I 主分类号 C23C24/04(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 刘建
主权项 一种成膜方法,其使原料的粉末与气体一并加速,将该粉末以保持固相状态的方式直接向基材的表面喷涂,并使该粉末堆积,由此进行成膜,所述成膜方法的特征在于,所述成膜方法包括以下工序:基材配置工序,在该基材配置工序中,将所述基材配置在腔室内;以及成膜工序,在该成膜工序中,将所述粉末以及非活性气体从喷嘴朝向所述基材喷射,利用所述非活性气体使所述腔室内处于正压,并且使所述粉末堆积在所述基材的表面上,形成被膜。
地址 日本国神奈川县