| 发明名称 | 提高光刻机作业效率的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种提高光刻机作业效率的方法，包括步骤：1）步进式光刻机关联工程的掩膜版与扫描式光刻机关联工程的掩膜版成90度旋转；2）关联的对准标记与套刻测量标记均以步进式光刻机的曝光尺寸为单位进行放置。本发明通过调整在步进式光刻机上的曝光方向，在最大限度利用扫描式光刻机产能的基础上，减少步进式光刻机的损失，从而最大程度提升光刻机的整体作业效率。 | ||
| 申请公布号 | CN104698762A | 申请公布日期 | 2015.06.10 |
| 申请号 | CN201310655037.3 | 申请日期 | 2013.12.06 |
| 申请人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 洪雪辉;陈卢佳 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人 | 高月红 |
| 主权项 | 一种提高光刻机作业效率的方法，其特征在于，包括步骤：1）掩膜版制作的排版步进式光刻机关联工程的掩膜版与扫描式光刻机关联工程的掩膜版成90度旋转；2）掩膜版上对准标记与套刻测量标记的放置关联的对准标记与套刻测量标记均以步进式光刻机的曝光尺寸为单位进行放置。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||