| 发明名称 | 芳烃化合物直接合成含氮杂环芳烃化合物的方法 | ||
| 摘要 | 芳烃化合物直接合成含氮杂环芳烃化合物的方法，在常温放电条件下，以无机氮化合物为氮源，以芳烃化合物为原料，在敞开式或密封反应釜中，通过苯与含氮化合物自由基的反应生成含氮杂环芳烃化合物，本发明在常温常压下，苯通过与无机含氮化合物的相互作用，在放电条件下可直接生成吡啶化合物；同时，利用本发明提供的反应条件，可使甲苯直接转化为3-甲基吡啶、二甲苯生成二甲基吡啶、萘生成异喹啉等；该方法具有操作简便，条件温和，原料易得，选择性高等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN103626690B | 申请公布日期 | 2015.06.10 |
| 申请号 | CN201310669687.3 | 申请日期 | 2013.12.10 |
| 申请人 | 西安石油大学 | 发明人 | 张智平;张新荣;郑亚君 |
| 分类号 | C07D213/16(2006.01)I;C07D215/06(2006.01)I | 主分类号 | C07D213/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人 | 弋才富 |
| 主权项 | 芳烃化合物直接合成含氮杂环芳烃化合物的方法，其特征在于，在常温放电条件下，以无机氮化合物为氮源，以芳烃化合物为原料，在敞开式或密封反应釜中，通过苯与含氮化合物自由基的反应生成含氮杂环芳烃化合物，反应式如下：<img file="FDA0000686334740000011.GIF" wi="1062" he="265" />其中：所述的无机氮化合物的氮源为一氧化氮、二氧化氮、氮气或空气，无机氮源气体流速可为0.1～50L/min；放电条件为直流高压放电或交流低温等离子体放电；反应体系可为敞开式放电体系或密封式放电体系；反应时间为：5秒钟到20小时；所述的芳烃化合物为苯、甲苯、二甲苯和萘。 | ||
| 地址 | 710065 陕西省西安市电子二路东段18号 | ||