发明名称 METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER SUBSTRATE, MULTILAYER INSULATING FILM, AND MULTILAYER SUBSTRATE
摘要 <p>소정의 깊이의 홈을 양호한 정밀도로 형성할 수 있는 다층 절연 필름을 제공한다. 본 발명에 관련된 다층 기판의 제조 방법은, 제 1 절연층 (2) 과, 제 1 절연층 (2) 의 일방의 표면에 적층된 제 2 절연층 (3) 을 갖고, 제 2 절연층 (3) 이, 제 2 절연층 (3) 을 부분적으로 제거할 때에, 제 1 절연층 (2) 과 제 2 절연층 (3) 중 제 2 절연층 (3) 만을 선택적으로 제거하여, 얻어지는 절연층에 제 2 절연층 (3) 의 두께 깊이의 홈을 형성하는 것이 가능하도록 구성되어 있는 다층 절연 필름 (1) 을 이용하여, 회로 기판의 표면 상에, 다층 절연 필름 (1) 을 적층하는 공정과, 제 1 절연층 (2) 과 제 2 절연층 (3) 중 제 2 절연층 (3) 만을 선택적으로, 또한 제 2 절연층 (3) 을 부분적으로 제거하여, 얻어지는 절연층에 제 2 절연층 (3) 의 두께 깊이의 홈을 형성하는 공정과, 절연층에 형성된 상기 홈 내에 금속 배선을 형성하는 공정을 구비한다.</p>
申请公布号 KR20150063370(A) 申请公布日期 2015.06.09
申请号 KR20157005773 申请日期 2013.09.25
申请人 SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. 发明人 SHIRAHASE KAZUTAKA;SHIOMI KAZUYOSHI;HAYASHI TATSUSHI
分类号 H05K3/46;B32B27/08;H05K1/03;H05K3/00;H05K3/10 主分类号 H05K3/46
代理机构 代理人
主权项
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