发明名称 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, DEVICE PRODUCING METHOD, AND OPTICAL COMPONENT
摘要 <p>노광 장치 (EX) 는 투영 광학계 (PL) 와 액체 (1) 를 통해 기판 (P) 상에 노광광 (EL) 을 조사하여 기판 (P) 을 노광하는 것으로서, 기판 (P) 을 유지하기 위한 기판 테이블 (PT) 을 구비하고, 기판 테이블 (PT) 에 발액성의 평탄면 (30A) 을 갖는 플레이트 부재 (30) 를 교환 가능하게 형성하여 액체가 잔류하는 것을 방지하고, 양호한 노광 정밀도를 유지할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101525367(B1) 申请公布日期 2015.06.09
申请号 KR20147008198 申请日期 2004.12.03
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址