发明名称 Fault diagnosis method for heater in plasma type chemical vapor deposition equipment
摘要 <p>본 발명은, 플라즈마 CVD 장비의 히터에 걸리는 전압 신호 변화를 통해 상기 히터의 결함을 판단할 수 있으므로 상기 히터의 교체 시기를 확인할 수 있는 이점이 있다. 또한, 전압 신호를 웨이팅 구간과 RF구간으로 구분하고, 상기 웨이팅 구간에서는 영교차율을 결함 기준과 비교하고, 상기 RF구간에서는 평균교차율을 결함 기준과 비교함으로써, 상기 히터의 결함을 보다 정확하게 판단할 수 있다. 또한, 가우시안 혼합 모델 기반의 결함 진단 방법을 사용하여, 웨이팅 구간과 RF구간의 각 로그-우도값을 결함 기준과 비교함으로써, 상기 히터의 결함을 보다 정확하게 판단할 수 있다. 또한, 전압 신호를 웨이팅 구간과 RF구간으로 구분하고, 상기 웨이팅 구간에서는 영교차율을 결함 기준과 비교하고, 상기 RF구간에서는 쇼트타임 에너지를 결함 기준과 비교함으로써, 상기 히터의 결함을 보다 정확하게 판단할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101525819(B1) 申请公布日期 2015.06.09
申请号 KR20130090404 申请日期 2013.07.30
申请人 发明人
分类号 C23C16/44;C23C16/50 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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