PARTICLE FREE ROTARY TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
摘要
<p>축 방향을 정의하는 축 주위를 회전하도록 구성된 회전가능한 스퍼터 타겟이 설명된다. 회전가능한 스퍼터 타겟은, 적어도, 타겟을 형성하는, 제 1 타겟 세그먼트 및 제 2 타겟 세그먼트를 포함하고, 제 1 타겟 세그먼트와 제 2 타겟 세그먼트의 대향하는 측부 표면들 중 적어도 하나는, 구체적으로 10 ㎛ Rmax 또는 그 초과, 보다 구체적으로 100 ㎛ Rmax 또는 그 초과의 표면 거칠기로 러프닝된다.</p>
