发明名称 LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD
摘要 <p>새로운 방법을 이용하여 기판의 표면으로부터 막을 제거하는 액처리 장치 등을 제공한다. 제 1 막의 상층에 제 2 막이 형성된 기판으로부터 제 1 막 및 제 2 막을 제거하는 액처리 장치(3)에서, 제 1 약액 공급부(51)는 기판(W)으로 제 1 막을 용해시키기 위한 제 1 약액을 공급하고, 제 2 약액 공급부(51)는 제 2 막의 강도를 저하시키기 위한 제 2 약액을 공급하고, 충격 공여부로서의 기능을 겸하는 유체 공급부(52)는 제 2 막에 물리적 충격을 주어 당해 제 2 막을 파괴하고 또한, 파괴된 제 2 막의 파편을 흘려 보내기 위한 유체를 공급한다. 제어부(7)는 제 2 약액을 공급하고, 이어서 유체 공급부(52)로부터 유체를 공급한 후 제 1 약액을 공급하도록 각 부를 제어한다.</p>
申请公布号 KR101526264(B1) 申请公布日期 2015.06.05
申请号 KR20100055594 申请日期 2010.06.11
申请人 发明人
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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