液处理装置及液处理方法

摘要

本发明提供一种液处理装置及液处理方法。该液处理装置能够有效地清洗基板的下表面。基板清洗装置(10)具有位于被基板保持机构保持的基板(W)的下表面的下方并用于将处理液喷射到基板的下表面的喷嘴(60)。喷嘴具有排列在从与基板的部相对的位置到与基板的周缘部相对的位置之间的多个第1喷射口(61)。第1喷射口以朝向基板的下表面喷射的处理液的喷射方向具有基板的旋转方向的成分的方式被形成。

主权项

一种液处理装置，其中，该液处理装置包括：基板保持部，其具有用于保持基板的周缘部的保持构件，以水平地保持基板的方式构成；旋转驱动部，其用于使上述基板保持部旋转；第1喷嘴，其位于被上述基板保持机构保持的基板的下表面的下方并且用于将处理液喷射到被上述基板保持部保持的基板的下表面，具有多个第1喷射口，上述多个第1喷射口排列在从与被上述基板保持部保持的基板的中央部相对的位置到与基板的周缘部相对的位置之间；液体供给机构，其用于将处理液供给到上述第1喷射口中；上述第1喷射口以从该第1喷射口朝向基板的下表面被喷射的处理液的喷射方向向利用上述旋转驱动部旋转的基板的旋转方向倾斜的方式形成，上述液体供给机构包括用于将处理液供给到上述第1喷嘴中的处理流体供给管，在上述基板保持部的中央部设有贯通孔，上述处理流体供给管在该贯通孔中穿过；上述第1喷嘴具有设在与被上述基板保持部保持的基板的中央部相对的位置的中央部分，在上述中央部分配置有以朝向铅垂方向上方喷射处理液的方式形成的至少1个第2喷射口；上述中央部分被安装在上述处理流体供给管的上端，并用作将上述贯通孔覆盖的覆盖构件。