| 发明名称 |
HIGH ASPECT RATIO STRUCTURE ANALYSIS |
| 摘要 |
높은 종횡비(aspect ratio) 피쳐들 상에서 커트닝 인공물들(curtaining artifacts)은 보호층 및 관심 피쳐 사이 거리를 감소시킴으로써 감소될 수 있다. 예를 들면, 이온 빔은 경사진 표면을 생성하기 위하여 작업물 표면에 대한 임의의 각도로 밀링(milling)할 수 있다. 보호층은 경사진 표면 위로 퇴적되고, 이온 빔은 분석을 위해 관심 피쳐를 노출하도록 보호층을 통과하여 밀링한다. 경사진 밀링은 커트닝을 감소시키기 위하여 보호층을 관심 피쳐에 가깝게 위치시킨다. |
| 申请公布号 |
KR20150060748(A) |
申请公布日期 |
2015.06.03 |
| 申请号 |
KR20157008578 |
申请日期 |
2013.10.04 |
| 申请人 |
FEI COMPANY |
发明人 |
LEE, SANG HOON;STONE STACEY;BLACKWOOD JEFFREY;SCHMIDT MICHAEL |
| 分类号 |
H01L21/66;B23K15/08;G01B15/00;G01N21/65;G01N23/00;G01N23/225;H01J37/305 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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