真空双极溅射餐具镀膜方法

摘要

本发明涉及餐具镀膜，具体涉及一种真空双极溅射餐具镀膜方法，包括封闭的溅射室，溅射室的中间为带负极的金属柱体，即单极靶，所述单极靶设置成中空，且单极靶内设置有磁块，由磁块形成定磁场；溅射室内、单极靶的周围设置带正极的工架；具体镀膜步骤如下：步骤一：将餐具放在溅射室内的工架上，关闭溅射室；步骤二：抽真空；步骤三：向溅射室内充入惰性气体，并保持真空度在0.25～0.35Pa；步骤四：镀膜，通高压电，使溅射室内的氩气电离，电离出的氩气分子在正负极的作用下，从正极向负极运动，单极靶受到氩气分子的冲击，金属分子被反弹至餐具上，本发明采用单极靶形成可移动磁场使餐具上的镀层均匀一致。

主权项

一种真空双极溅射餐具镀膜方法，包括封闭的溅射室，溅射室的中间为带负极的金属柱体，即单极靶，所述单极靶设置成中空，且单极靶内设置有磁块，由磁块形成定磁场，所述单极靶由一动力装置驱动，在动力装置的驱动下单极靶进行自转运动，而定磁场围绕单极靶做圆周运动；所述溅射室内、单极靶的周围设置带正极的工架；具体镀膜步骤如下：步骤一：将餐具放在溅射室内的工架上，关闭溅射室，形成封闭的溅射空间；步骤二：抽气，利用抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到0.008～0.015Pa；步骤三：向溅射室内充入惰性气体，并保持真空度在0.25～0.35Pa；步骤四：镀膜，给溅射室内的单极靶通高压电，电压为700伏，使溅射室内的氩气电离，电离出的氩气分子在正负极的作用下，从正极向负极运动，即氩气分子从四周向中间的单极靶运动，对单极靶形成冲击；单极靶受到氩气分子的冲击，金属分子被反弹至餐具上。