发明名称 一种聚合物高分子材料等离子体表面改性工艺
摘要 本发明公开了一种聚合物高分子材料等离子体表面改性工艺,(1)将聚合物高分子材料产品洗净,送入配备了镀膜部件及离子源的八角形真空室内,开离子源预活化及改性处理;(2)镀膜(3)等离子表面改性(4)等离子处理半个小时后,重复过程(2)和(3)至少1次,等离子体处理结束后,降温到50度时候,关闭真空阀门,通入空气,打开真空室门,取出处理后的聚合物高分子材料产品。本发明的优点是高分子产品表面的导电膜层提高了产品的导电性,使得电场可以加载在高分子产品上面,对等离子体进行调制处理,采用镀膜和等离子体复合处理工艺,提高了高分子产品的处理效果,提供了多种工艺可能性。
申请公布号 CN104674168A 申请公布日期 2015.06.03
申请号 CN201510093846.9 申请日期 2015.03.03
申请人 温州职业技术学院 发明人 王向红;郎文昌;高斌;谢婷婷
分类号 C23C14/20(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/46(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I 主分类号 C23C14/20(2006.01)I
代理机构 温州瓯越专利代理有限公司 33211 代理人 陈加利
主权项 一种聚合物高分子材料等离子体表面改性工艺,其特征在于包括以下工序:(1)将聚合物高分子材料产品洗净,送入配备了镀膜部件及离子源的八角形真空室内,抽真空,并预加热到100‑200度,待真空度到达7*10e‑3的时候,通入激发气体0.1‑2Pa之间,开离子源对聚合物高分子材料产品表面进行活化及改性处理,处理时间5‑10分钟;(2)将离子源关闭,将工作气体氩气压强调整为0.1‑1Pa之间,开启镀膜部件,所述的镀膜部件为装备了金属靶材的磁控溅射阴极或者精细离子镀弧源,在聚合物高分子材料产品的表面沉积导电膜层,镀膜时间为5‑30分钟,镀膜结束后,开启脉冲叠加直流偏压10‑20kV,占空比10%‑90%;(3)停止镀膜,通入工作气体激发气体,调节压强在0.1‑2Pa之间,开启离子源激发过程,及等离子体加速过程,聚合物高分子材料产品接通脉冲叠加直流偏压10‑20kV,占空比10%‑90%,对等离子体进行能量调制;(4)等离子处理半个小时后,重复过程(2)和(3)至少1次,等离子体处理结束后,降温到50度时候,关闭真空阀门,通入空气,打开真空室门,取出处理后的聚合物高分子材料产品。
地址 325000 浙江省温州市瓯海区茶山高教园区