发明名称 新型工业气体均匀分布系统
摘要 本实用新型公开了一种新型工业气体均匀分布系统,包括气瓶和气体分布器,气体分布器包括至少两块气体分布平板,在其中一块平板上,刻有若干组槽,每组槽由若干级横向和纵向的槽呈阶梯状排布,横向槽将相邻的纵向槽连通,所述的至少两块气体分布平板的接触面是气密性接触面;本实用新型加工工艺简单,供气更为均匀,能实现分段供气。
申请公布号 CN204369986U 申请公布日期 2015.06.03
申请号 CN201420852969.7 申请日期 2014.12.29
申请人 戴欢 发明人 戴欢
分类号 C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种新型工业气体均匀分布系统,其特征在于:包括气瓶和气体分布器,所述的气瓶与气体分布器连接,所述的气体分布器包括至少两块气体分布平板,在其中一块平板上刻有若干组槽,每组槽由若干级横向和纵向的槽呈阶梯状排布,横向槽将相邻的纵向槽连通,所述的至少两块气体分布平板的接触面是气密性接触面。
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