| 发明名称 | 紧凑流体分析器件及其制造方法 | ||
| 摘要 | 在第一方面，本发明涉及用于分析流体样本的器件。所述器件包括：流控衬底，包括：嵌入在流控衬底中的配置用于通过毛细力将流体样本传播通过该器件的微流控组件；连接到该微流控组件的用于提供流体样本的装置；附连到该流控衬底至少部分覆盖该流控衬底并至少部分关闭该微流控组件的盖子；其中该流控衬底是硅流控衬底且其中该盖子是CMOS芯片。在第二方面，本发明的各实施例涉及用于制造这样的器件的方法。该方法包括：提供流控衬底；提供盖子；通过CMOS兼容接合处理来将流控衬底附连到盖子以至少部分关闭流控衬底。 | ||
| 申请公布号 | CN104668002A | 申请公布日期 | 2015.06.03 |
| 申请号 | CN201410852370.8 | 申请日期 | 2014.12.26 |
| 申请人 | IMEC 非营利协会 | 发明人 | L·拉哈;P·波伊曼斯 |
| 分类号 | B01L3/00(2006.01)I | 主分类号 | B01L3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 杨洁 |
| 主权项 | 一种用于分析流体样本的器件(100)，该器件包括：流控衬底(101)，包括：微流控组件(102)，所述微流控组件嵌入在所述流控衬底(101)中，被配置用于通过毛细力将流体样本传播通过所述微流控组件(102)；以及连接到所述微流控组件(102)的用于提供流体样本的装置；附连到所述流控衬底(101)至少部分覆盖所述流控衬底(101)并至少部分关闭所述微流控组件(102)的盖子(103)；其特征在于：所述流控衬底(101)是硅流控衬底，并且其中所述盖子(103)是CMOS芯片。 | ||
| 地址 | 比利时勒芬 | ||