电极保护膜形成剂

摘要

提供即使用150℃以下的低温烧成也能够形成足够硬度的电极保护膜的电极保护膜形成剂、电极保护膜以及具有该电极保护膜的电子器件。尤其是用于显示元件时，能够形成小洞（はじき）和气孔的产生被抑制了的液晶取向膜的电极保护膜形成剂。一种电极保护膜形成剂，其含有聚硅氧烷，所述聚硅氧烷是将含有式（1）的化合物和选自式（2）的化合物中至少一种化合物的烷氧基硅烷缩聚而得到。R¹Si(OR²)₃ (1)（R¹是含有脲基的碳原子数1～8的烃基，R²表示碳原子数1～5的烷基。）(R³)_nSi(OR⁴)_4-n (2)（R³为取代或未取代的碳原子数1～8的烃基，R⁴为碳原子数1～5的烷基，n表示0～3的整数）。

主权项

一种电极保护膜形成剂，其特征在于，含有聚硅氧烷，所述聚硅氧烷是将含有式(1)表示的烷氧基硅烷和选自式(2)表示的烷氧基硅烷的至少一种化合物的烷氧基硅烷缩聚而得到，R¹{Si(OR²)₃}_P   (1)R¹为被脲基取代的碳原子数1～12的烃基，R²为碳原子数1～5的烷基，p表示1或2的整数，(R³)_nSi(OR⁴)_4‑n   (2)R³为氢原子或可被杂原子、卤原子、乙烯基、氨基、环氧丙氧基、巯基、甲基丙烯酰氧基、异氰酸酯基或丙烯酰氧基取代的碳原子数1～8的烃基，R⁴为碳原子数1～5的烷基，n表示0～3的整数；所述式(1)表示的烷氧基硅烷在全部烷氧基硅烷中含有0.5～60摩尔％，且所述式(2)表示的烷氧基硅烷在全部烷氧基硅烷中含有40～99.5摩尔％。