| 发明名称 |
EXPOSURE/RENDERING DEVICE, EXPOSURE/RENDERING SYSTEM, PROGRAM, AND EXPOSURE/RENDERING METHOD |
| 摘要 |
<p>피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있는 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램 및 노광 묘화 방법을 제공한다. 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보(60A)에 의거하여 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보(60A)에 의해 나타내어지는 화상을 제 1 면에 묘화하고, 피노광 기판의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보(60B)를 기억하고, 복수의 제 2 작업 정보(60A) 중 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 제 1 작업 정보(60A)에 의해 나타내어지는 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 제 2 작업 정보(60B)에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 제 2 면에 묘화한다.</p> |
| 申请公布号 |
KR20150060682(A) |
申请公布日期 |
2015.06.03 |
| 申请号 |
KR20157005395 |
申请日期 |
2013.08.27 |
| 申请人 |
ADTEC ENGINEERING CO., LTD. |
发明人 |
OZAKI YUKIHISA;SATOU JUNICHI |
| 分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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