真空中高速预冷站和后热站

摘要

本发明涉及一种离子注入系统，该系统向置于冷却夹盘上的处理腔室的真空环境中的工件提供离子。处理腔室内的预冷站具有配置成将工件冷却至第一温度的冷却的工件支撑件，处理腔室内的后热站具有配置成将工件加热至第二温度的加热的工件支撑件。第一温度低于处理温度，第二温度高于外部温度。工件传送臂进一步配置成在夹盘、装载锁定腔室、预冷站及后热站中的两个或两个以上构件之间同时传送两个或两个以上工件。

主权项

一种离子注入系统，其包括：真空腔室，其具有与其关联的处理环境；离子注入设备，其配置成向位于所述真空腔室中的工件提供多个离子；夹盘，其配置成在所述工件暴露于所述多个离子期间在所述真空腔室内支撑所述工件，其中该盘配置成将所述工件冷却至处理温度；装载锁定腔室，其耦接至所述真空腔室，其中该装载锁定腔室配置成使所述处理环境与外部环境隔离，其中该装载锁定腔室包括配置成在所述处理腔室与所述外部环境之间传送所述工件期间支撑所述工件的工件支撑件；以及置于所述处理腔室内的预冷站，其中该预冷站包括配置成将所述工件冷却至第一温度的冷却的工件支撑件；置于所述处理腔室内的后热站，其中该后热站包括配置成将所述工件加热至第二温度的加热的工件支撑件；以及工件传送臂，其中该工件传送臂配置成在所述夹盘、所述装载锁定腔室、所述预冷站及所述后热站中的两个或更多个构件之间同时传送两个或更多个工件。