发明名称 |
PIN二极管及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种PIN二极管,在p型硅衬底中具有隔离结构;在隔离结构底部的p型硅衬底中具有p型赝埋层,作为PIN二极管的p型半导体部分;在两个隔离结构之间的p型硅衬底中具有第一n型掺杂区,该第一n型掺杂区作为PIN二极管的本征半导体部分,其与p型赝埋层相接触;在两个隔离结构之间且在第一n型掺杂区的表面具有掺杂浓度更高的第二n型掺杂区,在第二n型掺杂区之上具有n型多晶硅,该第二n型掺杂区与n型多晶硅一起作为PIN二极管的n型半导体部分;第一接触孔电极穿越p型多晶硅和隔离结构与p型赝埋层相接触;第二接触孔电极与n型多晶硅相接触。本发明还公开了其制造方法,可降低制造成本,并具有较低的串联电阻,且使各方向的电流均匀。 |
申请公布号 |
CN103178121B |
申请公布日期 |
2015.06.03 |
申请号 |
CN201110431871.5 |
申请日期 |
2011.12.21 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
胡君;刘冬华;钱文生;段文婷;石晶 |
分类号 |
H01L29/868(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/868(2006.01)I |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
代理人 |
丁纪铁 |
主权项 |
一种PIN二极管,在p型硅衬底中具有隔离结构;其特征是,在隔离结构底部的p型硅衬底中具有p型赝埋层,作为PIN二极管的p型半导体部分;在两个隔离结构之间的p型硅衬底中具有第一n型掺杂区,该第一n型掺杂区作为PIN二极管的本征半导体部分,其与p型赝埋层相接触;在两个隔离结构之间且在第一n型掺杂区的表面具有掺杂浓度更高的第二n型掺杂区,在第二n型掺杂区之上具有n型多晶硅,该第二n型掺杂区与n型多晶硅一起作为PIN二极管的n型半导体部分;在隔离结构之上具有p型多晶硅;第一接触孔电极穿越p型多晶硅和隔离结构与p型赝埋层相接触;第二接触孔电极与n型多晶硅相接触。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |