| 发明名称 | 偏光板 | ||
| 摘要 | 本发明涉及即使在高湿度条件下也显示出优异耐久性的偏光板，且更具体而言，涉及一种偏光板，其包括：偏光片和形成在该偏光片的至少一个表面上的保护层，其中，所述保护层由可自由基固化组合物的固化产物形成，所述可自由基固化组合物包含：由下面的[化学式1]表示的化合物；乙烯基醚化合物；包含至少一个不饱和双键的羧酸化合物；以及自由基引发剂。 | ||
| 申请公布号 | CN104685392A | 申请公布日期 | 2015.06.03 |
| 申请号 | CN201480000913.1 | 申请日期 | 2014.06.13 |
| 申请人 | LG化学株式会社 | 发明人 | 李美潾;朴光承;朴俊昱;许恩树 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;G02B1/14(2015.01)I;B32B27/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人 | 朱梅;李维盈 |
| 主权项 | 一种偏光板，其包括：偏光片和形成在所述偏光片的至少一个表面上的保护层，其中，所述保护层由可自由基固化组合物的固化产物形成，所述可自由基固化组合物包含：由下面的[化学式1]表示的化合物；乙烯基醚化合物；包含至少一个不饱和双键的羧酸化合物；以及自由基引发剂，[化学式1]<img file="FDA0000577284810000011.GIF" wi="496" he="213" />在[化学式1]中，R<sub>1</sub>是酯基或醚基，R<sub>2</sub>是具有至少一个羟基取代基的C<sub>1‑10</sub>烷基或具有至少一个羟基取代基的C<sub>4‑10</sub>环烷基；以及R<sub>3</sub>是氢或C<sub>1‑10</sub>烷基。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||