| 发明名称 | 制造透明漫射OLED基板的方法和所得基板 | ||
| 摘要 | 本发明被描述为制造透明扩散OLED基板的方法，其包括以下连续步骤：（a）用磨料浆研磨扁平半透明玻璃基板的一面或两面，以获得具有至少一个粗糙化表面的扁平玻璃基板，所述至少一个粗糙化表面具有算术平均偏差R<sub>a</sub>为0.1μm至2.0μm、优选0.15μm至1.5μm、更优选0.2至小于1.0μm、最优选0.25μm至0.8μm的粗糙轮廓，（b）用具有至少1.7、优选1.7至2.2的折射率的高折射率玻璃釉料涂覆粗糙化表面或粗糙化表面之一，所述高折射率玻璃釉料的量足以在所述玻璃釉料熔融后完全覆盖所述粗糙化表面的粗糙轮廓；（c）将经涂覆的基板加热至高于所述高折射率玻璃釉料的熔融温度且低于下层基板的软化温度的温度，从而在所述粗糙化表面之一上形成高折射率搪瓷。 | ||
| 申请公布号 | CN104684860A | 申请公布日期 | 2015.06.03 |
| 申请号 | CN201380050687.3 | 申请日期 | 2013.09.24 |
| 申请人 | 法国圣戈班玻璃厂 | 发明人 | 周叶春;李荣盛;J.P.施魏策尔;V.索维内 |
| 分类号 | C03C17/04(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 黄念;吕彩霞 |
| 主权项 | 制造透明漫射OLED基板的方法，其包括以下连续步骤：（a）用磨料浆研磨扁平半透明玻璃基板的一面或两面，以获得具有至少一个粗糙化表面的扁平玻璃基板，所述至少一个粗糙化表面具有算术平均偏差R<sub>a</sub>为0.1μm至2.0μm、优选0.15μm至1.5μm、更优选0.2至小于1.0μm、最优选0.25μm至0.8μm的粗糙轮廓，（b）用具有至少1.7、优选1.7至2.2的折射率的高折射率玻璃釉料涂覆所述粗糙化表面或所述粗糙化表面之一，所述高折射率玻璃釉料的量足以在所述玻璃釉料熔融后完全覆盖所述粗糙化表面的粗糙轮廓；（c）将经涂覆的基板加热至高于所述高折射率玻璃釉料的熔融温度且低于底部基板的软化温度的温度，从而在所述粗糙化表面之一上形成高折射率搪瓷。 | ||
| 地址 | 法国库伯瓦 | ||