发明名称 沉积薄膜的装置和方法
摘要 一种薄膜沉积装置,包括:沉积装置,包括上盖和衬底,所述上盖与所述衬底之间形成用于承装溶液的沉积室;加热系统,包括承载热液的热液承载装置和与所述热液承载装置相连的用于加热热液的加热装置,所述衬底固定在所述热液承载装置上,且所述热液承载装置内的热液与所述衬底的一个表面相接触;反应液供应装置,包括反应液承载装置和进料管,所述进料管的一端与所述反应液承载装置连通,另一端穿过所述上盖,用于将所述反应液承载装置中的反应液输送至所述衬底的另一个表面上。在上述薄膜沉积装置中,由于镀膜只在衬底的一面进行,而另一面保持清洁,防止污染,节省了反应液,提高了反应液的利用率。本发明还提供一种薄膜沉积的方法。
申请公布号 CN103008168B 申请公布日期 2015.06.03
申请号 CN201210535035.6 申请日期 2012.12.12
申请人 深圳先进技术研究院;香港中文大学 发明人 李朝晖;宋秋明;张军;顾光一;肖旭东
分类号 B05C5/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 B05C5/00(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 刘诚;吴平
主权项 一种薄膜沉积装置,其特征在于,包括:沉积装置,包括上盖和衬底,所述上盖与所述衬底之间形成用于承装溶液的沉积室;加热系统,包括承载热液的热液承载装置和与所述热液承载装置相连的用于加热热液的加热装置,所述衬底固定在所述热液承载装置上,且所述热液承载装置内的热液与所述衬底的一个表面相接触;所述热液承载装置的侧壁设置有突出部,所述上盖和所述衬底分别与所述突出部相抵,在所述上盖与所述突出部相抵的部位设置有第一密封件,在所述衬底与所述突出部相抵的部位设置有第二密封件;及反应液供应装置,包括反应液承载装置和进料管,所述进料管的一端与所述反应液承载装置连通,另一端穿过所述上盖,用于将所述反应液承载装置中的反应液输送至所述衬底的另一个表面上。
地址 518055 广东省深圳市南山区西丽大学城学苑大道1068号