发明名称 |
可溶于显影剂的酸敏性底部减反射涂料 |
摘要 |
本发明提供了可溶于显影剂的酸敏性底部减反射涂料组合物,以及使用这种组合物的方法和由其形成的微电子结构。所述组合物优选包含溶解或分散于溶剂体系的可交联聚合物。所述聚合物优选包含具有金刚烷基的重复单体单元。所述组合物还优选包含与所述聚合物一起分散或溶解于溶剂体系的交联剂,如乙烯基醚交联剂。在一些实施方式中,所述组合物还可包含光致酸发生剂(PAG)和/或猝灭剂。所述都不抗反射涂料组合物可热交联,但在酸存在性可解交联,从而变得可溶于显影剂。 |
申请公布号 |
CN102395925B |
申请公布日期 |
2015.06.03 |
申请号 |
CN201080008975.9 |
申请日期 |
2010.02.19 |
申请人 |
布鲁尔科技公司 |
发明人 |
J·D·米多尔;J·A·洛斯;R-m·L·麦卡多 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
顾敏 |
主权项 |
一种形成微电子结构的方法,所述方法包括:(a)提供具有表面的基片;(b)在所述表面上形成减反射层,所述减反射层是用减反射组合物形成的,该组合物包含溶解或分散于溶剂体系的聚合物,所述聚合物包含具有金刚烷基的重复单体单元,取组合物总重为100重量%,以此为基准计,所述减反射层包含少于0.005重量%的酸发生剂,所述金刚烷基选自以下基团:<img file="FDA0000612491000000011.GIF" wi="1182" he="398" />其中每个R4’独立选自支化和非支化的氰基烷基,R4独立选自支化和非支化的烷基以及氰基烷基;和(c)在所述减反射层上施涂光刻胶,形成成像层。 |
地址 |
美国密苏里州 |