发明名称 |
测试图形的标记方法和标记装置 |
摘要 |
本发明提供了一种测试图形的标记方法和标记装置,该标记方法包括:提供测试图形,所述测试图形包括多个规则无间断的条状图形;确定所述测试图形的待量测点;在所述测试图形上,所述待量测点周围的对称位置处设置多个开口,每个所述多个开口使得经过该位置的条状图形间断;所述多个开口到所述待量测点的距离相等,并且所述距离至少满足:所述开口对于该测试图形的光学特性影响程度小于等于2%。采用本发明的测试图形标记方法,可以比较容易在模拟光刻图形上获得与测试图形的待量测点对应的点,不会因为在原测试图形上设置开口而影响模拟光刻图形的光学特性。 |
申请公布号 |
CN104678695A |
申请公布日期 |
2015.06.03 |
申请号 |
CN201310612564.6 |
申请日期 |
2013.11.26 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
王辉;黄宜斌;沈泫 |
分类号 |
G03F1/36(2012.01)I;G03F1/44(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种测试图形的标记方法,其特征在于,包括:提供测试图形,所述测试图形包括多个规则无间断的条状图形;确定所述测试图形的待量测点;在所述测试图形上,所述待量测点周围的对称位置处设置多个开口,所述多个开口的每个开口使得经过该位置的条状图形间断;其中,所述多个开口到所述待量测点的距离相等,并且所述距离至少满足:所述开口对于该测试图形的光学特性影响程度小于等于2%。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |