| 发明名称 | 导电图案的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供如下导电图案的制造方法，该方法能够获得导电性良好的导电图案、能够显著提高生产效率而无需伴随高温且长时间的加热处理。本发明提供导电图案的制造方法，其具备如下曝光工序：用具有广谱的光对包含导电性颗粒A和有机化合物B的基板上的膜或图案进行曝光，从而得到导电膜或导电图案。 | ||
| 申请公布号 | CN104685976A | 申请公布日期 | 2015.06.03 |
| 申请号 | CN201380051742.0 | 申请日期 | 2013.09.27 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 田边美晴;井口雄一朗;草野一孝 |
| 分类号 | H05K3/06(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H05K3/12(2006.01)I | 主分类号 | H05K3/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 高旭轶;刘力 |
| 主权项 | 导电图案的制造方法，其具备如下曝光工序：用具有广谱的光对包含导电性颗粒A和有机化合物B的基板上的膜或图案进行曝光，从而得到导电膜或导电图案。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||