发明名称 用于运行至少一个光源的方法和控制设备
摘要 本发明涉及一种用于运行至少一个光源的方法和控制设备,光源具有至少一个光发射元件,控制设备具有提供装置、测量装置、比较装置和调适装置,其中,元件构造成用于当大于最小电压的正向电压施加到元件上并且产生的电流流过该元件时发射出光谱,其中,提供装置构造成用于在使用开关调节器的情况下给光源提供电能,该开关调节器给元件施加对于辐射来说典型的正向电压,测量装置构造成用于测量通过提供的正向电压引发的穿过元件的电流,比较装置构造成用于将该电流与对于要由元件发射出的光谱来说期望的电流进行比较,以便得到修正参数,并且调适装置构造成用于在使用该修正参数的情况下调适元件的开关周期的占空比,以便使光源以希望的光辐射运行。
申请公布号 CN104684204A 申请公布日期 2015.06.03
申请号 CN201410532267.5 申请日期 2014.10.10
申请人 ZF腓德烈斯哈芬股份公司;统治科技私人有限公司 发明人 埃尔温·克费尔;蒂洛·哈克
分类号 H05B37/02(2006.01)I;H01H13/83(2006.01)I 主分类号 H05B37/02(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 杨靖;车文
主权项 一种用于运行具有至少一个光发射元件(112)的至少一个光源(102)的方法(300),其中,所述元件(112)构造成用于当大于最小电压的正向电压施加到所述元件(112)上并且产生的电流流过所述元件(112)时发射出光谱,其特征在于具有提供步骤(302)、测量步骤(304)、比较步骤(306)和调适步骤(308),其中,在所述提供步骤(302)中,在使用开关调节器(114)的情况下给所述光源(102)提供电能,所述开关调节器给所述元件(112)施加对于辐射来说典型的正向电压,其中,在所述测量步骤(304)中,测量通过提供的正向电压引发的穿过所述元件(112)的电流,其中,在所述比较步骤(306)中,将该电流与对于要由元件(112)发射出的光谱来说期望的电流进行比较,以便得到修正参数,并且其中,在所述调适步骤(308)中,在使用所述修正参数的情况下调适所述元件(112)的开关周期的占空比,以便使所述光源(102)以希望的光辐射运行。
地址 德国腓德烈斯哈芬
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