一种静电卡盘及其等离子体处理室

摘要

本发明公开了一种静电卡盘及其等离子体处理室，在静电卡盘的绝缘层下方均匀设置若干个温度控制单元，每个温度控制单元能独立进行温度调节，同时每个温度控制单元内包括加热测温电路，使得每个温度控制单元在进行温度调节的同时还能准确得知其温度的上升下降情况，电路简化，结构简单，有效控制了静电卡盘表面的温度均匀，保证了刻蚀工艺的稳定性。

主权项

一种静电卡盘，其特征在于：所述静电卡盘包括一支撑基片的绝缘层，所述绝缘层下方设置若干温度控制单元，所述每个温度控制单元包括一加热测温电路，所述加热测温电路两端分别通过开关连接一电压源，实现对所述温度控制单元的温度控制。