| 发明名称 | 用于显微镜透照装置的平面光源 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于显微镜透照装置的平面光源(100)，其用于观察显微镜中的样本(1)，该平面光源(100)包含板状光导(110)，其具有下边界表面、上边界表面、至少一个侧面(113至116)以及至少一个发光装置(120，122)，该发光元件被布置成通过作为光入射面的至少一个侧面，从至少两个不同的方向将光线辐射入光导(110)，通过这种方式光线在光导(110)内以全反射的方式传播，通过在光导(110)下边界表面上的接触面上邻接元件(140)的方式破坏该全反射，从而光线从光导(110)的上边界表面耦合输出，该接触面的平面面积小于该下边界表面的平面面积。 | ||
| 申请公布号 | CN102707422B | 申请公布日期 | 2015.06.03 |
| 申请号 | CN201210023510.1 | 申请日期 | 2012.02.02 |
| 申请人 | 徕卡显微系统（瑞士）股份公司 | 发明人 | R·保卢斯;R·祖斯特;H·史尼兹勒 |
| 分类号 | G02B21/06(2006.01)I;G02B6/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B21/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人 | 王勇 |
| 主权项 | 一种用于显微镜透照装置的平面光源(100；200；300；400)，用于观察显微镜中的样本(1)，其中所述平面光源(100)位于样本(1)的下方，以使光透射通过样本(1)，该平面光源(100；200；300；400)包含板状光导(110；210；310)，其具有下边界表面(111)、上边界表面(112)、至少一个侧面(113至116)以及至少一个发光装置(120,122)，该发光元件被布置成通过作为光入射面的至少一个侧面，从至少两个不同的方向将光线(130)辐射入光导(110；210；310)，通过这种方式光线在光导(110；210；310)内以全反射的方式传播，通过在光导(110；210；310)下边界表面(111)上的接触面(A)上邻接元件(140；440)的规定方式破坏该全反射，从而光线从光导(110；210；310)的上边界表面(112)耦合输出，该接触面的平面面积(A)小于该下边界表面(111)的平面面积(L<sup>2</sup>)。 | ||
| 地址 | 瑞士海尔布鲁格 | ||