发明名称 RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PROCESS FOR PRODUCING INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS
摘要 <p>본 발명은 높은 감방사선 감도와 우수한 현상 마진을 갖고 바탕과의 밀착성에도 우수한 패턴상 박막을 용이하게 형성할 수 있는, 층간 절연막 및 마이크로렌즈의 형성에 바람직한 감방사선성 조성물을 제공한다. 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과, 옥시라닐기 함유 불포화 화합물 및 옥세타닐기 함유 불포화 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 함유하여 이루어지는 불포화 혼합물의 공중합체, 1,2-퀴논디아지드 화합물 및 탄소수 6 내지 15의 아릴기를 갖는 실세스퀴옥산을 함유하는 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이다.</p>
申请公布号 KR101525254(B1) 申请公布日期 2015.06.02
申请号 KR20090024420 申请日期 2009.03.23
申请人 发明人
分类号 G03F7/022 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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