| 摘要 |
<p>본 발명은, 상기 과제를 감안하여, 고감도화된 플라즈마 발광 검출 수단을 구비한 플라즈마 처리 장치 및 고감도화된 플라즈마 발광 검출 수단을 사용한 플라즈마 처리 방법을 제공한다. 본 발명은, 플라즈마 처리를 행하는 처리실과, 상기 처리실에 프로세스 가스를 공급하는 가스 공급 수단과, 상기 처리실 내에 공급된 프로세스 가스를 플라즈마화하기 위한 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원과, 상기 처리실 내에 생성된 플라즈마의 발광을 검출하는 광 검출기를 구비하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 광 검출기는, 펄스 변조된 고주파 전력에 의해 생성된 플라즈마의 발광을 소정의 노광 시간 동안 검출하는 검출부와, 각 상기 노광 시간 내에 검출되는 상기 플라즈마의 발광 양이 일정해지도록 제어하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 한다.</p> |
