| 主权项 |
一种成膜装置，系于真空容器内将至少2种会相互反应之反应气体依序供给至基板表面，并藉由实施如此之供给循环而形成一层积有复数之反应生成物层的薄膜之成膜装置，其特征在于具备有：回转台，设置于该真空容器内；基板载置部，系用以载置基板于该回转台之基板载置面处；第1反应气体供给机构及第2反应气体供给机构，于该回转台之回转方向上相互远离而设置，且于该回转台中基板载置面一侧，将第1反应气体及第2反应气体各别供给至第1处理区域及第2处理区域；分离区域，其系为了分离该第1处理区域与第2处理区域之气氛而被设置于该回转方向上该等处理区域之间，且具有一用以将第1分离气体供给至该分离区域的第1分离气体供给机构以及一顶面，其中该顶面系位于该第1分离气体供给机构之该回转台回转方向之两侧处，而与该回转台之间形成了用以让分离气体自该分离区域流向处理区域一侧的狭窄空间；中心部区域，其系位于真空容器内中心部且用以分离该第1处理区域与该第2处理区域之气氛，并形成有将第2分离气体喷出至回转台之基板载置面一侧的喷出孔；排气口，用以排出扩散至该分离区域两侧的该第1分离气体、自该中心部区域所喷出的该第2分离气体、以及该第1及第2反应气体；以及驱动部，以该基板通过该第1处理区域时该回转台之角速度与通过该第2处理区域时该回转台之角速度为不同角速度之方式来使该回转台回转。 |
