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통상 노광(드라이 노광), 액침 노광, 이중 노광에 있어서, 패턴 형상, 라인 에지 러프니스, 패턴 붕괴 성능, 감도, 해상력이 양호한 포지티브형 레지스트 조성물, 상기 포지티브형 레지스트 조성물을 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 포지티브형 레지스트 조성물에 사용되는 화합물로서, (A) 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물, (B) 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해도가 증대하는 수지 및 (C) 산의 작용에 의해 분해되어 산을 발생시키는 특정 구조의 화합물을 함유하는 포지티브형 레지스트 조성물, 상기 포지티브형 레지스트 조성물을 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 포지티브형 레지스트 조성물에 사용되는 화합물을 제공한다. |
