发明名称 |
单晶矽提拉用二氧化矽容器及其制造方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI486314 |
申请公布日期 |
2015.06.01 |
申请号 |
TW102114214 |
申请日期 |
2013.04.22 |
申请人 |
信越石英股份有限公司 |
发明人 |
山形茂 |
分类号 |
C03B19/09;C03B20/00;C30B29/06;C30B35/00;C30B15/20 |
主分类号 |
C03B19/09 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种单晶矽提拉用二氧化矽容器,于内侧具有由透明二氧化矽玻璃所构成的透明层,于外侧具有由含有气泡之不透明二氧化矽玻璃所构成的不透明层,该单晶矽提拉用二氧化矽容器的特征在于:前述透明层,位于前述二氧化矽容器的内表面侧,并由高OH基层与低OH基层所构成,该高OH基层以300~1500massppm的浓度含有OH基且厚度是0.5mm以上且3mm以下,该低OH基层的OH基浓度低于该高OH基层,且算数平均的OH基浓度值为60massppm以下;对前述高OH基层的内表面,以25~1000μg/cm2的浓度涂布Ba。 |
地址 |
日本 |