发明名称 单晶矽提拉用二氧化矽容器及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI486314 申请公布日期 2015.06.01
申请号 TW102114214 申请日期 2013.04.22
申请人 信越石英股份有限公司 发明人 山形茂
分类号 C03B19/09;C03B20/00;C30B29/06;C30B35/00;C30B15/20 主分类号 C03B19/09
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种单晶矽提拉用二氧化矽容器,于内侧具有由透明二氧化矽玻璃所构成的透明层,于外侧具有由含有气泡之不透明二氧化矽玻璃所构成的不透明层,该单晶矽提拉用二氧化矽容器的特征在于:前述透明层,位于前述二氧化矽容器的内表面侧,并由高OH基层与低OH基层所构成,该高OH基层以300~1500massppm的浓度含有OH基且厚度是0.5mm以上且3mm以下,该低OH基层的OH基浓度低于该高OH基层,且算数平均的OH基浓度值为60massppm以下;对前述高OH基层的内表面,以25~1000μg/cm2的浓度涂布Ba。
地址 日本