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经营范围
发明名称
半导体装置及其制造方法
摘要
申请公布号
TWI487119
申请公布日期
2015.06.01
申请号
TW098133727
申请日期
2009.10.05
申请人
半导体能源研究所股份有限公司
发明人
秋元健吾
分类号
H01L29/786;H01L21/336;H01L21/28
主分类号
H01L29/786
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种半导体装置,包括:包括铟、镓、和锌的氧化物半导体层;包括铝的第一导电层;在该第一导电层上的包括高熔点金属材料的第二导电层;以及包括氧化铝的阻挡层,其中,该阻挡层在该第一导电层的边缘部分中形成,以及其中,该氧化物半导体层被设置为与该第二导电层和该阻挡层接触。
地址
日本
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