| 摘要 |
一种尤其用于CVD反应器之基座的加热装置，具有第一加热元件(1.1)和第二加热元件(1.2)，其中，每个加热元件(1.1、1.2)具有由加热丝构成的加热构件(2.1、2.2)，其中，该加热构件(2.1、2.2)位于共同的加热面中或多个相互平行的加热面(H1、H2)中，并且具有横向于该加热面(H1、H2)延伸的接触元件(3.1、4.1、3.2、4.2)的该加热构件(2.1、2.2)的端部分别与位于平行于该加热面(H1、H2)的接触面(K1、K2)中的接触板(5、6)相连接，其中，该接触元件(3.1、3.2、4.1、4.2)如此并排安置在该接触面(K1、K2)中，使得该加热元件(1.1、1.2)在该接触板(5、6)之间电气并联。为了提高加热装置的使用寿命，在此建议，加热元件(1.1、1.2)之加热构件(2.1、2.2)是等长的并且具有相同的电阻，第二加热元件(1.2)的接触元件(3.2、4.2)相互间具有间距(A2)，该间距(A2)小于第一加热元件(1.1)的接触元件(3.1、4.1)的间距(A1)，并且第二加热元件(1.2)的接触元件(3.2、4.2)比第一加热元件(1.1)的接触元件(3.1、4.1)更短。 |
