发明名称 镀膜设备;DEPOSITION APPARATUS
摘要 一种镀膜设备,包括一中空座体、一靶源及一散热元件。中空座体具有一开口。中空座体内具有至少一导引斜面,导引斜面往开口倾斜。靶源固定于中空座体且适于对一工件进行镀膜。散热元件位于中空座体内以对靶源进行散热。来自散热元件的一液体适于沿导引斜面往开口流动并通过开口而离开中空座体。
申请公布号 TW201520354 申请公布日期 2015.06.01
申请号 TW102143481 申请日期 2013.11.28
申请人 财团法人金属工业研究发展中心 METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE 发明人 谢志男 SHIEH, JYH NAN;许恭铭 HSU, KUNG MING;张凯杰 CHANG, KAI JEIH;何玫蓉 HO, MEI JUNG
分类号 C23C14/34(2006.01);C23C14/56(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文叶璟宗
主权项
地址 高雄市楠梓区高楠公路1001号 TW