| 发明名称 |
包括硷反应性成份之组成物及光微影制程 |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
TWI486711 |
申请公布日期 |
2015.06.01 |
| 申请号 |
TW100149505 |
申请日期 |
2011.12.29 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 |
发明人 |
王大洋;山田信太郎;刘琮;李铭启;吴俊析;吴昌毅;康 多瑞姿;徐承柏 |
| 分类号 |
G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/038 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
一种加工光阻组成物之方法，包括：(a)于基材施加光阻组成物，该组成物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性成分，及(iii)一种或多种包括硷反应性基团之材料，该一种或多种材料与该一种或多种树脂有区别，其中该硷反应性基团与硷反应而提供羟基或羧基，其中，该硷反应性基团包括氟化酯类；及(b)对施加之光阻层乾式曝光于活化该光阻组成物之辐射。
|
| 地址 |
美国 |
