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发明名称
液体处理装置;LIQUID TREATMENT DEVICE
摘要
本发明提供一种,可将杯体周围之环境气体维持在乾净的状态之液体处理装置。 液体处理装置16,对旋转的基板W供给处理液以施行液体处理,围绕构件20、23、24,包围旋转的基板W,将包含上方设置有开口的杯体50之上方空间在内的区域,于较该杯体50更为外方侧包围。气流形成部21,自杯体50之上方侧形成下降气流,而底面部28,沿着周向将杯体50与围绕构件20、23、24之间封闭。在较杯体50更为外侧,设置排气口241、231,将较底面部28更为上方的围绕构件20、23、24及底面部28所包围之区域排气。
申请公布号
TW201521107
申请公布日期
2015.06.01
申请号
TW103131241
申请日期
2014.09.10
申请人
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人
脇山辉史 WAKIYAMA, TERUFUMI;伊藤规宏 ITO, NORIHIRO;东岛治郎 HIGASHIJIMA, JIRO
分类号
H01L21/306(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
周良谋周良吉
主权项
地址
日本 JP
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